File:Photolithography etching process.svg
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W3C-validity not checked.摘要
| 描述 |
English: Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. Note: Not to scale. |
| 來源 | 自己的作品 |
| 作者 | Cmglee |
| 其他版本 |
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.svg)
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| 目前 | 2025年10月11日 (六) 13:35 | | 512 × 2,560（10 KB） | Wikipidéanach | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for ga. |
| 2022年4月17日 (日) 08:27 |  | 512 × 2,560（8 KB） | Djiboun | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for fr. | |
| 2020年6月20日 (六) 13:18 |  | 512 × 2,560（5 KB） | Mega deppa | Reverted to version as of 16:52, 9 October 2011 (UTC) | |
| 2020年6月20日 (六) 13:16 |  | 512 × 2,560（8 KB） | Mega deppa | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for ja. | |
| 2011年10月9日 (日) 16:52 |  | 512 × 2,560（5 KB） | Cmglee | Align text, change enumeration and change colour to match Image:CMOS_fabrication_process.svg. | |
| 2011年9月30日 (五) 22:03 |  | 512 × 2,560（5 KB） | Cmglee | Merge develop and remove exposed photoresist. | |
| 2011年9月29日 (四) 22:46 |  | 512 × 2,926（5 KB） | Cmglee | Fix text alignment. | |
| 2011年9月29日 (四) 22:39 |  | 512 × 2,926（5 KB） | Cmglee | Fix text alignment. | |
| 2011年9月29日 (四) 22:37 |  | 512 × 2,926（5 KB） | Cmglee | Fix text alignment. | |
| 2011年9月29日 (四) 22:30 |  | 512 × 3,413（5 KB） | Cmglee | {{Information |Description ={{en|1=Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. }} |Source ={{own}} |Author =Cmglee |Date |
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