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File:Photolithography etching process.svg

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摘要

描述
English: Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. Note: Not to scale.
来源 自己的作品
作者 Cmglee
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2022年4月17日 (日) 08:272022年4月17日 (日) 08:27版本的缩略图512 × 2,560​（8 KB）DjibounFile uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for fr.
2020年6月20日 (六) 13:182020年6月20日 (六) 13:18版本的缩略图512 × 2,560​（5 KB）Mega deppaReverted to version as of 16:52, 9 October 2011 (UTC)
2020年6月20日 (六) 13:162020年6月20日 (六) 13:16版本的缩略图512 × 2,560​（8 KB）Mega deppaFile uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for ja.
2011年10月9日 (日) 16:522011年10月9日 (日) 16:52版本的缩略图512 × 2,560​（5 KB）CmgleeAlign text, change enumeration and change colour to match Image:CMOS_fabrication_process.svg.
2011年9月30日 (五) 22:032011年9月30日 (五) 22:03版本的缩略图512 × 2,560​（5 KB）CmgleeMerge develop and remove exposed photoresist.
2011年9月29日 (四) 22:462011年9月29日 (四) 22:46版本的缩略图512 × 2,926​（5 KB）CmgleeFix text alignment.
2011年9月29日 (四) 22:392011年9月29日 (四) 22:39版本的缩略图512 × 2,926​（5 KB）CmgleeFix text alignment.
2011年9月29日 (四) 22:372011年9月29日 (四) 22:37版本的缩略图512 × 2,926​（5 KB）CmgleeFix text alignment.
2011年9月29日 (四) 22:302011年9月29日 (四) 22:30版本的缩略图512 × 3,413​（5 KB）Cmglee{{Information |Description ={{en|1=Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. }} |Source ={{own}} |Author =Cmglee |Date

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